多晶硅生產(chǎn)大多采用改良西門(mén)子法，用來(lái)生產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)用的多晶硅。改良西門(mén)子法生產(chǎn)多晶硅的反應(yīng)器主要為還原爐。該方法具體為：在多晶硅還原爐內(nèi)安裝沉積載體，并對(duì)沉積載體進(jìn)行通電使其發(fā)熱后，將還原爐內(nèi)高純氯硅烷和氫氣的混合氣體加熱至1000℃以上，發(fā)生反應(yīng)生成硅沉積在載體上。

還原爐是多晶硅生產(chǎn)的主要設(shè)備。其中，為保證多晶硅產(chǎn)品的品質(zhì)，對(duì)還原爐鐘罩內(nèi)表面的潔凈要求十分苛刻。如果鐘罩清洗不干凈、光潔度不夠，會(huì)導(dǎo)致硅芯擊不穿或者產(chǎn)品質(zhì)量污染等問(wèn)題。 目前，對(duì)于鐘罩內(nèi)表面的清洗，使用的大多為人工手持高壓水槍進(jìn)行清洗，處理速度較慢，并且整體自動(dòng)化程度較低，且清洗時(shí)廢氣揮發(fā)及廢水飛濺，會(huì)對(duì)周?chē)�環(huán)境及工作人員造成影響，清洗后的廢水較難處理，因此，目前急需一種新型的能夠解決上述缺陷的多晶硅還原爐鐘罩清洗設(shè)備。

德高潔電子級(jí)多晶硅鐘罩清洗系統(tǒng)自動(dòng)化程度高，用PLC+觸摸屏柔性自動(dòng)控制系統(tǒng)，能實(shí)現(xiàn)對(duì)還原爐鐘罩的自動(dòng)清洗和烘干，清洗烘干時(shí)間、溫度、清洗、漂洗等工藝參數(shù)可以根據(jù)需要自行調(diào)整設(shè)定，同時(shí)具有半自動(dòng)或手動(dòng)功能。一次吊裝在一個(gè)工作臺(tái)上完成全部清洗、烘干過(guò)程，可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程對(duì)樓下設(shè)備的控制和主要參數(shù)監(jiān)控。

1、清洗質(zhì)量：多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)以水為動(dòng)力，以水力自驅(qū)動(dòng)三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網(wǎng)狀噴射來(lái)完成爐筒內(nèi)部表面的水力掃射，實(shí)現(xiàn)全面清洗效果
2、快速烘干：清洗后用經(jīng)過(guò)三級(jí)凈化(10萬(wàn)級(jí))的純凈空氣，梯級(jí)加熱，保證烘干完的鐘罩不再結(jié)露，可直接進(jìn)入生產(chǎn)作業(yè)，
3、安全清洗：清洗全程在密閉環(huán)境下作業(yè)，有效避免廢水飛濺及廢氣揮發(fā)對(duì)周?chē)�環(huán)境造成的負(fù)面影響，環(huán)保更安全；
4、清洗效率：機(jī)械代替人工清洗，不僅能夠保證清洗的一致性和均勻性，有效減少人工投入，每一項(xiàng)工序機(jī)械化，全面提升多晶硅還原爐清洗效率； 德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)清洗流程：還原爐鐘罩到位→預(yù)清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)還原爐鐘罩的清洗烘干。
 
德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)清洗系統(tǒng)采用環(huán)保工藝搭配清洗設(shè)備，結(jié)合自動(dòng)化智能化的清洗方式，不僅能夠提高多晶硅還原爐鐘罩的清洗效率及安全性，更能夠?yàn)槎嗑Ч柽�原爐鐘罩清洗時(shí)的質(zhì)量、環(huán)保等問(wèn)題進(jìn)行加持，目前系統(tǒng)已經(jīng)覆蓋90%的多晶硅生產(chǎn)企業(yè)，為多晶硅還原爐生產(chǎn)廠(chǎng)家提供更加環(huán)保、高效、安全的還原爐鐘罩自動(dòng)清解決方案，為多晶硅生產(chǎn)行業(yè)的快速發(fā)展助力。